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第9回セミナー～フォトエレクトロニクスに向けた最先端材料～【2023/3/15】

【参加費：無料】事前の登録を、このサイトからお願いします。参加形態をチェックお願いします。オンサイト参加でも登録いただければオンラインリンク差し上げます。また、当日、事前登録なくオンサイト参加も可能です。

ﾊｲﾌﾞﾘｯﾄﾞ開催　　 上智大学 紀尾井坂ビル304室 or Zoom


2023年3月15日（水）13：00～16：50

12：30頃　ウェビナー開始
13：10-13：15　
開会の辞（TIA,TIA-EXA活動、今回の趣旨）　南 (東大)

13：15-14：00　
高 磊　AIST 「光チップレット集積へ向けた異種材料薄膜転写：μ-Transfer Printing」座長:鴻池 (AIST)

14：00-14：45　
島 宏美 防衛大 「フォトニックデバイス実現に向けたマルチフェロイック薄膜の光学特性評価」座長: 永沼 (東北大)・鴻池 (AIST)

14：45-15：00　休憩
15：00-15：45　
山下 大喜 理化学研究所「低次元物質とフォトニクスの融合による光集積デバイスの開発」座長: 鴻池 (AIST)

15：45-16：30　
近藤 真矢 岡山大「次世代型電気光学素子への応用に向けた強誘電体薄膜の制御」座長:南 (東大)

16：30-16：50　総合討論　司会　鴻池 (AIST)　最後に閉会の辞　南 (東大)

＊TIAは、産総研、NIMS、筑波大、KEK、東大、東北大で推進しているオープンイノベーションプラットフォームです。 https://www.tia-nano.jp/

＊＊TIA-EXAは、エレクトロニクスの未来を担う若手研究者のネットワーキングや連携研究にむけた活動を応援する集まりです。

また、当日の講演の概要や場所情報が記載されたチラシ（PDF)をこちらからダウンロードいただけます。
https://www.tia-nano.jp/data/doc/1676877532_doc_58_0.pdf



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Mar 15, 2023 01:00 PM in Osaka, Sapporo, Tokyo